Моделювання умов існування емітера важкотопкого матеріалу в процесі катодного вакуумно-дугового осадження

В. Д. Алімов$^{1}$, А. В. Недоля$^{1}$, І. Н. Тітов$^{2}$

$^{1}$Запорізький національний університет, вул. Жуковського 66, 69600 Запоріжжя, Україна
$^{2}$Науково-технічний центр панорамних акустичних систем НАН України, вул. Чубанова, 1, 69600 Запоріжжя, Україна

Отримано: 22.11.2013; остаточний варіант - 13.10.2014. Завантажити: PDF

Запропоновано нелінійний математичний модель розігрівання емітера під час катодного вакуумно-дугового осадження матеріялів, який враховує залежність тепломісткости та теплопровідности матеріялу катоди від температури. За допомогою моделю розраховано значення густини струму емісії для різних тяжкотопких матеріялів, що добре узгоджуються з літературними значеннями, а також визначено умови, за яких реалізується випаровування матеріялу катоди. Встановлено зв’язок між густиною струму емісії та часом розігріву емітера до температури випаровування, який має нелінійний характер і залежить від термічних характеристик матеріялу катоди. Модель уможливлює підвищити ефективність осадження матеріялів шляхом попереднього оцінювання технологічних та фізичних параметрів осадження.

Ключові слова: нелінійне рівняння теплопровідності, густина струму, емісія, емітер, катод, важкотопкий матеріал.

URL: http://mfint.imp.kiev.ua/ua/abstract/v36/i11/1523.html

PACS: 02.60.Lj, 65.40.Ba, 66.70.Df, 72.15.Eb, 73.30.+y, 81.15.Jj, 79.70.+q


ЦИТОВАНА ЛІТЕРАТУРА
  1. С. Ф. Дудник, А. П. Любченко, А. К. Олейник, А. В. Сагалович, В. В. Сагалович, Физическая инженерия поверхности, 2, № 1–2: 112 (2004).
  2. P. Strzyzewski, M. J. Sadowski, R. Nietubyc, K. Rogacki, T. Paryjczak, and J. Rogowski, Mater. Sci. Poland., 26, No. 1: 213 (2008).
  3. А. А. Андреев, О. В. Соболь, В. Ф. Горбань, А. Л. Васильев, В. А. Столбовой, И. В. Сердюк, Физическая инженерия поверхности, 8, № 3: 203 (2010).
  4. A. Anders, Handbook of Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition (New York: John Wiley & Sons: 2000).
  5. И. И. Аксенов, А. А. Андреев, В. А. Белоус, В. Е. Стрельницкий, В. М. Хороших, Вакуумная дуга. Источники плазмы, осаждение покрытий, поверхностное модифицирование (Киев: Наукова думка: 2012).
  6. Е. А. Литвинов, Г. А. Месяц, Д. И. Проскуровский, Успехи физических наук, 139, вып. 2: 265 (1983). Crossref
  7. А. В. Недоля, Е. И. Пиваев, И. Н. Титов, Физическая инженерия поверхности, 7, № 4: 330 (2009).
  8. Физические величины: Справочник (ред. И. С. Григорьев, Е. З. Мейлихов) (Москва: Энергоатомиздат: 1991).
  9. Д. В. Глазанов, Л. М. Баскин, Г. Н. Фурсей, Журнал технической физики, 59, № 5: 60 (1989).
  10. W. B. Nottingham, Phys. Rev., 59, No. 11: 907 (1941). Crossref
  11. R. L. Boxman, D. M. Sanders, and P. J. Martin, Handbook of Vacuum Arc Science and Technology: Fundamentals and Applications (Noyes: William Andrew Publishing: 1995).
  12. Ю. П. Райзер, Физика газового разряда: Учебное руководство (Москва: Наука: 1987).