Выпуски МФиНТ »  Том 41, выпуск 6

Расчет распределения элементного состава многокомпонентных металлических покрытий на внутренней поверхности труб малого диаметра

Ю. О. Косминская, В. И. Перекрестов, А. С. Корнющенко

Сумский государственный университет, ул. Римского-Корсакова, 2, 40007 Сумы, Украина

Получена: 18.12.2018. Скачать: PDF

Для нанесения многокомпонентных высокоэнтропийных металлических покрытий с улучшенными защитными свойствами авторами предложено новое устройство на основе магнетронного распыления и эффекта полого катода, в котором мишень выполнена в виде составного стержня. Область применения этого устройства включает нанесение покрытий на внутреннюю поверхность труб малого диаметра (от 4 см). В представленной работе для указанного устройства развита математическая модель массопереноса распыленного вещества, которая позволяет рассчитывать распределение молярных долей компонент покрытия в зависимости от координаты поверхности осаждения, конфигурации составной мишени-стержня и геометрических размеров основных конструктивных элементов устройства.

Ключевые слова: магнетронное распыление, молярная доля, полый катод, составная мишень, математическая модель массопереноса.

URL: http://mfint.imp.kiev.ua/ru/abstract/v41/i06/0733.html

PACS: 05.60.Cd, 07.05.Fb, 52.77.Dq, 81.05.Bx, 81.15.Cd

ЦИТИРОВАННАЯ ЛИТЕРАТУРА
  1. O. Baranov, K. Bazaka, H. Kersten, M. Keidar, U. Cvelbar, S. Xu, and I. Levchenko, Appl. Phys. Rev., 4, Iss. 4: 041302-1 (2017). Crossref
  2. I. Levchenko, M. Keidar, S. Xu, H. Kersten, and K. (Ken) Ostrikov, J. Vac. Sci. Technol. B, 31, Iss. 5: 050801-1 (2013). Crossref
  3. A. Anders, Surf. Coatings Technol., 204, Iss. 18–19: 2864 (2010). Crossref
  4. J. G. Han, J. Phys. D. Appl. Phys., 42, No. 4: 043001-1 (2009). Crossref
  5. P. J. Kelly and R. D. Arnell, Vacuum, 56, Iss. 3: 159 (2000). Crossref
  6. J. Musil, P. Baroch, J. Vlcek, K. H. Nam, and J. G. Han, Thin Solid Films, 475, Iss. 1–2: 208 (2005). Crossref
  7. В. І. Перекрестов, О. А. Мокренко, Ю. О. Космінська, Розпилювальний пристрій для нанесення у вакуумі надпоруватих покриттів з металів або слабколетких речовин на плоскі підкладки: Патент 92525 UA, МКЛ С23С 14/35, С23С 14/24, H01J 27/02 (Бюл. № 21: 4) (2010).
  8. В. І. Перекрестов, Ю. О. Космінська, А. С. Корнющенко, Пристрій для формування вакуумних конденсатів: 80775 UA, МКЛ С23С14/35 (Бюл. № 17: 1) (2007).
  9. В. І. Перекрестов, О. Д. Погребняк, Ю. О. Космінська, Пристрій для нанесення покриттів у вакуумі: Патент 57940А UA, МКЛ С23С14/35 (Бюл. № 7: 1) (2003).
  10. В. І. Перекрестов, Ю. О. Космінська, О. А. Мокренко, Б. В. Дьошин, Пристрій для нанесення покриттів у вакуумі: Патент 37359 UA, МКЛ С23С 14/35 (Бюл. № 22: 3) (2008).
  11. В. І. Перекрестов, О. Д. Погребняк, Ю. О. Космінська, Пристрій для нанесення покриттів у вакуумі: Патент 57952 UA, МКЛ С23С14/35 (Бюл. № 7: 1) (2003).
  12. В. І. Перекрестов, Ю. О. Космінська, Пристрій для нанесення покриттів у вакуумі: Патент 69723 UA, МКЛ С23С14/35 (Бюл. № 9: 1) (2004).
  13. В. І. Перекрестов, О. Д. Погребняк, Ю. О. Космінська, Розпилювальний пристрій для нанесення покриттів у вакуумі: Патент 69974 UA, МКЛ С23С14/35 (Бюл. № 9: 1) (2004).
  14. В. І. Перекрестов, Ю. О. Космінська, Розпилювальний пристрій для нанесення покриттів у вакуумі: Патент 76257 UA, МКЛ С23С14/35 (Бюл. № 7: 1) (2006).
  15. В. И. Перекрестов, С. Н. Кравченко, Ю. А. Косминская, И. Н. Кононенко, Металлофиз. новейшие технол., 33, № 2: 203 (2011).
  16. D. B. Miracle, and O.N. Senkov, Acta Materialia, 122: 448 (2017). Crossref
  17. А. Д. Погребняк, А. А. Багдасарян, И. В. Якущенко, В. М. Береснев, Успехи химии, 82, № 11: 1027 (2014). Crossref
  18. В. Н. Черняев, Физико-химические процессы в технологии РЭА (Москва: Высшая школа: 1987).
  19. Handbook of Thin Film Technology (Eds. L. I. Maissel and R. Glang) (New York: McGraw-Hill: 1970), p. 1.
  20. Reactive Sputter Deposition (Eds. D. Depla and S. Mahieu) (Berlin: Springer-Verlag: 2008).
  21. Handbook of Thin Film Technology (Eds. L. I. Maissel and R. Glang) (New York: McGraw-Hill: 1970), p. 352.
  22. Handbook of Thin Film Technology (Eds. L. I. Maissel and R. Glang) (New York: McGraw-Hill: 1970), p. 405.
  23. В. Д. Соболев, Физические основы электронной техники (Москва: Высшая школа: 1979).
  24. A. Kumar and M. Gupta, Metals, 6, Iss. 9: 199-1 (2016). Crossref
  25. Sh. Guo and C. T. Liu, Progr. Natural Sci., 21, No. 6: 433 (2011). Crossref

© 2013–2019 «ИМФ НАН Украины»