Формирование металлической электропроводности в плёнках вакуумных конденсатов металлов
Р. И. Бигун1, М. Д. Бучковская1, В. М. Гаврилюх1, О. Е. Кравченко1, З. В. Стасюк1, Д. С. Леонов2
1Львовский национальный университет им. Ивана Франка, ул. Драгоманова, 50, 79005 Львов, Украина
2Технический центр НАН Украины, ул. Покровская, 13, 04070 Киев, Украина
Получена: 01.02.2014. Скачать: PDF
Проанализированы результаты исследования электронных явлений переноса заряда в ультратонких плёнках меди, золота, никеля и палладия, нанесённых методом замороженной конденсации на поверхности стекла и сурфактантных подслоёв германия субатомной толщины. Подтверждена возможность управления линейными размерами кристаллитов в плоскости, параллельной подложке, за счёт изменения массовой толщины сурфактантных подслоёв. Показано, что в электрически сплошных плёнках меди и золота толщиной больше 5—6 нм и в электрически сплошных плёнках никеля и палладия с толщинами больше 4—5 нм сохраняется электронная структура, аналогичная электронной структуре массивных металлов.
Ключевые слова: поверхностное и зернограничное рассеяние, тонкие металлические плёнки, полупроводниковые подслои субатомной толщины.
URL: http://mfint.imp.kiev.ua/ru/abstract/v36/i04/0531.html
PACS: 61.72.Hh, 72.10.Fk, 73.25.+i, 73.50.Bk, 73.50.Lw, 73.61.At, 81.15.Ef