Формирование металлической электропроводности в плёнках вакуумных конденсатов металлов
Р. И. Бигун$^{1}$, М. Д. Бучковская$^{1}$, В. М. Гаврилюх$^{1}$, О. Е. Кравченко$^{1}$, З. В. Стасюк$^{1}$, Д. С. Леонов$^{2}$
$^{1}$Львовский национальный университет им. Ивана Франка, ул. Драгоманова, 50, 79005 Львов, Украина
$^{2}$Технический центр НАН Украины, ул. Покровская, 13, 04070 Киев, Украина
Получена: 01.02.2014. Скачать: PDF
Проанализированы результаты исследования электронных явлений переноса заряда в ультратонких плёнках меди, золота, никеля и палладия, нанесённых методом замороженной конденсации на поверхности стекла и сурфактантных подслоёв германия субатомной толщины. Подтверждена возможность управления линейными размерами кристаллитов в плоскости, параллельной подложке, за счёт изменения массовой толщины сурфактантных подслоёв. Показано, что в электрически сплошных плёнках меди и золота толщиной больше 5—6 нм и в электрически сплошных плёнках никеля и палладия с толщинами больше 4—5 нм сохраняется электронная структура, аналогичная электронной структуре массивных металлов.
Ключевые слова: поверхностное и зернограничное рассеяние, тонкие металлические плёнки, полупроводниковые подслои субатомной толщины.
URL: http://mfint.imp.kiev.ua/ru/abstract/v36/i04/0531.html
PACS: 61.72.Hh, 72.10.Fk, 73.25.+i, 73.50.Bk, 73.50.Lw, 73.61.At, 81.15.Ef