Электронное строение аморфного металлического сплава Fe$_{77}$Si$_{8}$B$_{15}$
В. Л. Карбовский, А. Г. Ильинский, В. Х. Касияненко, О. И. Слуховский, Ю. В. Лепеева, Л. И. Карбовская, А. И. Соболев
Институт металлофизики им. Г.В. Курдюмова НАН Украины, бульв. Академика Вернадского, 36, 03680, ГСП, Киев-142, Украина
Получена: 29.11.2013; окончательный вариант - 06.05.2014. Скачать: PDF
Методами рентгеновской фотоэлектронной и туннельной спектроскопий исследовано электронное строение аморфного металлического сплава Fe$_{77}$Si$_{8}$B$_{15}$. В окислённом поверхностном слое исследуемого соединения, помимо связей C—C, наблюдаются связи C=O, характерные для сложных углеродных соединений. В окислённом слое не зафиксированы бор и его соединения. Наблюдается значительная поверхностная сегрегация кремния, концентрация которого сохраняется постоянной как в окислённом слое, так и по исследуемой глубине ленты. В объёме ленты обнаруживается присутствие карбида кремния Si—C, а также незначительные количества кислорода и азота. Методом туннельной спектроскопии обнаружены области с пониженной проводимостью, что характерно для образования нанофаз железа и кремния. Наблюдаются существенные неоднородности плотности электронных состояний на межкластерных границах, что свидетельствует об их сложной организации. Уровень Ферми исследуемого сплава находится в локальном минимуме плотности электронных состояний, что соответствует критерию Нагеля—Таука образования аморфного состояния.
Ключевые слова: электронное строение, плотность электронных состояний, спектроскопия, аморфный сплав.
URL: http://mfint.imp.kiev.ua/ru/abstract/v36/i07/0977.html
PACS: 61.43.Dq, 61.66.Dk, 68.37.Ef, 71.23.Cq, 71.55.Jv, 79.60.Ht, 81.70.Jb