Мемристорные эффекты в твёрдотельных гетероструктурах
Э. М. Руденко$^{1}$, М. А. Белоголовский$^{1}$, И. В. Короташ$^{1}$, Д. Ю. Полоцкий$^{1}$, А. А. Краковный$^{1}$, Е. С. Житлухина$^{2}$
$^{1}$Институт металлофизики им. Г.В. Курдюмова НАН Украины, бульв. Академика Вернадского, 36, 03680, ГСП, Киев-142, Украина
$^{2}$Донецкий физико-технический институт им. А.А. Галкина НАН Украины, просп. Науки, 46, 03680, ГСП, Киев, Украина
Получена: 23.06.2016. Скачать: PDF
Обсуждается физическая природа гистерезисных транспортных характеристик двух твёрдотельных структур. Для гетероконтактов металлического инжектора со сложным оксидом переходных металлов показано, что двузначные вольт-амперные зависимости возникают вследствие миграции кислородных вакансий под действием внешнего электрического поля, в то время как мемристорное поведение наноструктурированных углеродных плёнок обусловлено наличием ловушек для носителей тока. В последнем случае обнаружено, что после нескольких периодов изменения тока, пропускаемого через углеродную плёнку, в ней формируется состояние с экстремально высокой проводимостью. Найденная экспериментально асимметрия вольт-амперных характеристик углеродных плёнок открывает возможность использования их в качестве элемента интегрированной мемристорной схемы, способного устранить паразитную связь между соседними коммутационными узлами.
Ключевые слова: мемристор, вольт-амперні характеристики, гістереза, Оксиґенові вакансії, наноструктуровані вуглецеві плівки.
URL: http://mfint.imp.kiev.ua/ru/abstract/v38/i08/0995.html
PACS: 61.72.Hh, 73.40.Ns, 74.72.-h, 74.78.Fk, 81.40.Rs, 84.32.Ff, 85.25.Hv