Мемристорні ефекти в твердотільних гетероструктурах
Е. М. Руденко$^{1}$, М. О. Білоголовський$^{1}$, І. В. Короташ$^{1}$, Д. Ю. Полоцький$^{1}$, А. О. Краковний$^{1}$, О. С. Житлухіна$^{2}$
$^{1}$Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України, бульв. Академіка Вернадського, 36, 03680, МСП, Київ-142, Україна
$^{2}$Донецький фізико-технічний інститут ім. О.О. Галкіна НАН України, просп. Науки, 46, 03680, МСП, Київ, Україна
Отримано: 23.06.2016. Завантажити: PDF
Обговорюється фізична природа гістерезних транспортних характеристик двох твердотільних структур. Для гетероконтактів металевого інжектора зі складним оксидом перехідних металів показано, що двозначні вольт-амперні залежності виникають внаслідок міґрації Оксиґенових вакансій під дією зовнішнього електричного поля, в той час як мемристорну поведінку наноструктурованих вуглецевих плівок зумовлено наявністю пасток для носіїв струму. В останньому випадку виявлено, що після декількох періодів зміни струму, що пропускається через вуглецеву плівку, в ній формується стан з екстремально високою провідністю. Виявлена експериментально асиметрія вольт-амперних характеристик для вуглецевих плівок відкриває можливість використання їх в якості елемента інтеґрованої мемристорної схеми, здатного усунути паразитний зв’язок між сусідніми комутаційними вузлами.
Ключові слова: мемристор, вольт-амперные характеристики, гистерезис, кислородные вакансии, наноструктурированные углеродные плёнки.
URL: http://mfint.imp.kiev.ua/ua/abstract/v38/i08/0995.html
PACS: 61.72.Hh, 73.40.Ns, 74.72.-h, 74.78.Fk, 81.40.Rs, 84.32.Ff, 85.25.Hv