Частотные характеристики мемристорных структур на основе сложных оксидов переходных металлов
В. В. Шамаев$^{1}$, Е. С. Житлухина$^{2,3}$
$^{1}$Донецкий национальный технический университет, пл. Шибанкова, 2, 85300 Покровск, Украина
$^{2}$Донецкий национальный университет имени Васыля Стуса, ул. 600-летия, 21, 21021 Винница, Украина
$^{3}$Донецкий физико-технический институт им. А.А. Галкина НАН Украины, просп. Науки, 46, 03028 Киев, Украина
Получена: 05.04.2017. Скачать: PDF
Проанализирована частотная зависимость двузначных вольт-амперных характеристик мемристорных структур, образованных металлическим инжектором и плёнкой сложного оксида переходных металлов. Предложенная теоретическая модель основана на предположении о диффузии кислородных вакансий, локальная концентрация которых полностью определяет электрические характеристики металлооксидного соединения. Показано, что с увеличением частоты переменного тока, пропускаемого через данный контакт, отношение его максимального сопротивления к минимальному падает, в то время как влияние процесса релаксации вакансионной подсистемы к исходному состоянию не является существенным в случае, когда характерное время релаксации заметно превосходит период переменного тока.
Ключевые слова: мемристор, кислородные вакансии, гистерезис, частотный эффект, влияние релаксации.
URL: http://mfint.imp.kiev.ua/ru/abstract/v39/i06/0733.html
PACS: 61.72.jd, 62.23.St, 68.47.Gh, 73.40.Ns, 84.32.Dd, 84.32.Ff, 85.25.Hv