Частотні характеристики мемристорних структур на основі складних оксидів перехідних металів
В. В. Шамаєв$^{1}$, О. С. Житлухіна$^{2,3}$
$^{1}$Донецький національний технічний університет, пл. Шибанкова, 2, 85300 Покровськ, Україна
$^{2}$Донецький національний університет імені Василя Стуса, вул. 600-річчя, 21, 21021 Вінниця, Україна
$^{3}$Донецький фізико-технічний інститут ім. О.О. Галкіна НАН України, просп. Науки, 46, 03028 Київ, Україна
Отримано: 05.04.2017. Завантажити: PDF
Проаналізовано частотну залежність двозначних вольт-амперних характеристик мемристорних структур, утворених металевим інжектором і плівкою складного оксиду перехідних металів. Запропонований теоретичний модель ґрунтується на припущенні про дифузію Оксиґенових вакансій, локальна концентрація яких повністю визначає електричні характеристики металооксидної сполуки. Показано, що зі збільшенням частоти змінного струму, що пропускається через даний контакт, відношення його максимального опору до мінімального падає, в той час як вплив процесу релаксації вакансійної підсистеми до вихідного стану не є істотним у випадку, коли характерний час релаксації помітно перевершує період змінного струму.
Ключові слова: мемристор, Оксиґенові вакансії, гістереза, частотний ефект, вплив релаксації.
URL: http://mfint.imp.kiev.ua/ua/abstract/v39/i06/0733.html
PACS: 61.72.jd, 62.23.St, 68.47.Gh, 73.40.Ns, 84.32.Dd, 84.32.Ff, 85.25.Hv