В данной работе методом вторичной ионно-ионной эмиссии исследована кинетика распыления адсорбированных слоёв кислорода, полученных на очищенной ионным пучком поверхности тонких металлических плёнок Nb, Ti, Fe, Ni и Cu толщиной 100 нм в широком диапазоне доз облучения ионами Ar$^{+}$ с энергией 4 кэВ. Установлены закономерности изменения адсорбционной способности поверхности после длительной бомбардировки в зависимости от природы металла. Предложен механизм эффекта пассивации поверхности плёнок в результате указанной обработки.