У даній роботі методом вторинної йонно-йонної емісії проаналізовано кінетику розпорошення адсорбованих шарів кисню, що одержані на очищеній йонним пучком поверхні тонких металевих плівок Nb, Ti, Fe, Ni і Cu товщиною 100 нм в широкому діапазоні доз опромінення йонами Ar$^{+}$ з енергією 4 кеВ. Встановлено закономірності зміни адсорбційної здатності поверхні після тривалого бомбардування в залежності від природи металу. Запропоновано механізм ефекту пасивації поверхні плівок в результаті зазначеної обробки.