Формирование и структура слоя Al–Si на контактной поверхности алюминий–реактивный флюс системы KF–AlF3–K2SiF6
О. М. Сабадаш, С. В. Максимова
Институт электросварки им. Е. О. Патона НАН Украины, ул. Казимира Малевича, 11, 03150 Киев, Украина
Получена: 02.08.2019; окончательный вариант - 07.05.2020. Скачать: PDF
При нагревании реактивного флюса системы KF–AlF3–K2SiF6 на алюминиевой подложке происходят два процесса: восстановление кремния из состава гексафторсиликата калия, контактно-реактивное плавление кремния с алюминием. В результате на реакционной поверхности формируется слой из сплава Al–Si, состав которого близок к заэвтектическому, что подтверждено результатами микрорентгеноспектрального анализа. Микроструктура закристаллизированного металлического слоя Al–Si содержит зёрна твёрдого раствора на основе алюминия и заэвтектическую составляющую с концентрацией кремния (% масс.): 17,18 в межзеренных участках, а также отдельные дискретные включения пластинчатой фазы, которая по стехиометрическому составу близка к соединению FeSiAl5. Проведенные сравнительные эксперименты на графитовой подложке показали, что содержание кремния в остатках флюса после нагрева соответствует его содержанию в исходном составе флюса.
Ключевые слова: реактивный флюс системы KF–AlF3–K2SiF6, контактное плавление, кремний, алюминий, металлический слой Al–Si.
URL: http://mfint.imp.kiev.ua/ru/abstract/v42/i08/1079.html
PACS: 61.20.Qg, 61.25.Mv, 61.66.Fn, 81.15.Lm, 82.45.Mp