Формирование и структура слоя Al–Si на контактной поверхности алюминий–реактивный флюс системы KF–AlF$_3$–K$_2$SiF$_6$
О. М. Сабадаш, С. В. Максимова
Институт электросварки им. Е. О. Патона НАН Украины, ул. Казимира Малевича, 11, 03150 Киев, Украина
Получена: 02.08.2019; окончательный вариант - 07.05.2020. Скачать: PDF
При нагревании реактивного флюса системы KF–AlF$_3$–K$_2$SiF$_6$ на алюминиевой подложке происходят два процесса: восстановление кремния из состава гексафторсиликата калия, контактно-реактивное плавление кремния с алюминием. В результате на реакционной поверхности формируется слой из сплава Al–Si, состав которого близок к заэвтектическому, что подтверждено результатами микрорентгеноспектрального анализа. Микроструктура закристаллизированного металлического слоя Al–Si содержит зёрна твёрдого раствора на основе алюминия и заэвтектическую составляющую с концентрацией кремния (% масс.): 17,18 в межзеренных участках, а также отдельные дискретные включения пластинчатой фазы, которая по стехиометрическому составу близка к соединению FeSiAl$_5$. Проведенные сравнительные эксперименты на графитовой подложке показали, что содержание кремния в остатках флюса после нагрева соответствует его содержанию в исходном составе флюса.
Ключевые слова: реактивный флюс системы KF–AlF$_3$–K$_2$SiF$_6$, контактное плавление, кремний, алюминий, металлический слой Al–Si.
URL: http://mfint.imp.kiev.ua/ru/abstract/v42/i08/1079.html
PACS: 61.20.Qg, 61.25.Mv, 61.66.Fn, 81.15.Lm, 82.45.Mp