При нагріванні реактивного флюсу системи KF–AlF$_3$–K$_2$SiF$_6$ на алюмінієвій підкладці відбуваються два процеси: відновлення силіцію зі складу гексафторсилікату калію; контактно-реактивне топлення силіцію з алюмінієм. У результаті на реакційній поверхні формується шар зі стопу Al–Si, склад якого близький до заевтектичного, що підтверджено результатами мікрорентґеноспектрального аналізу. Мікроструктура закристалізованого металічного шару Al–Si містить зерна твердого розчину на основі Алюмінію і заевтектичну складову з концентрацією Силіцію (% мас.): 17,18 у міжзеренних ділянках, а також окремі дискретні вкраплення пластівчастої фази, що за стехіометричним складом близька до сполуки FeSiAl$_5$. Проведені порівняльні експерименти на графітовій підкладці показали, що вміст Силіцію у залишках флюсу після нагрівання відповідає його вмісту у вихідному складі флюсу.