В работе изложены технологические условия формирования двухслойных и трёхслойных пористых систем Zn/ZnO и Zn/ZnO/NiO. На первом этапе рассмотрено структурообразование базовых пористых систем Zn в процессе стационарной конденсации в условиях близких к термодинамическому равновесию, а также рассмотрены некоторые аспекты управления этим процессом с помощью самоорганизации неизменных во времени малых пересыщений конденсируемых паров. При получении пористых систем Zn сначала на подложки из лабораторного стекла с помощью двух магнетронных распылителей наносились двухслойные контактные площадки на основе Cr и Au. Общая толщина контактных площадок составляла 0,8 мкм. Необходимость предварительного нанесения контактных площадок обусловлена тем, что механизм зарождения пористых структур Zn и дальнейшего их наращивания зависят от природы поверхности подложки. На следующем этапе на контактных площадках были получены пористые слои Zn трёх типов. При реализации предельно слабых пересыщений образуются пористые структуры Zn в виде связанных нанонитей, а при постепенном повышении пресыщения наблюдается переход к образованию пористых структур на основе объёмных кристаллов. Показана возможность снижения сопротивления многослойных систем с помощью неполного окисления базовых пористых слоёв Zn или нанесения на них плёнок ZnO и NiO, что является важным для практического применения полученных слоёв при создании электродов литий-ионных аккумуляторов. На основе анализа результатов растровой и просвечивающей электронной микроскопии, а также энергодисперсионной рентгеновской спектроскопии и рентгеновской дифрактометрии оптимизированы фазовый и элементный составы, а также структурно-морфологические характеристики составляющих слоёв Zn/ZnO и Zn/ZnO/NiO.