В статті представлено результати локальної рентґеноспектральної аналізи покриттів, що одержані методою електроіскрового леґування (ЕІЛ) при енергії розряду $Wp$ = 0,13, 0,52 і 0,9 Дж анодами з ніклю і неіржавійної криці 12Х18Н10Т на поверхні катоди із криці 12Х18Н10Т. При ЕІЛ електродою-інструментом із криці 12Х18Н10Т зі збільшенням $Wp$ як в характерних точках, так і зі всієї дослідженої поверхні покриття, кількісний елементний склад суттєво не змінюється. Аналіза розподілу елементів по глибині сформованого шару показала, що при використанні в якості електроди-інструменту криці 12Х18Н10Т, зі збільшенням $Wp$ в поверхневому шарі відбувається незначне зменшення вмісту Хрому і збільшення Ніклю та Титану. При заміні криці 12Х18Н10Т на нікель зі збільшенням $Wp$ кількість Ніклю на поверхні покриття зменшується з 95,38 до 89,04%. По мірі поглиблення з поверхні покриття кількість Ніклю поступово зменшується, відповідно при $Wp$ = 0,13, 0,52 і 0,9 Дж з 96,29, 90,29 і 89,04% на поверхні до 9,0, 10,30 і 9,9% на глибині: 120, 165 і 240 мкм. При цьому кількість Хрому, Титану та Феруму поступово збільшується.