У даному дослідженні двошарові тонкі плівки з різним порядком шарів, — Ni/Ti/Si (100) і Ti/Ni/Si (100), — було одержано методою магнетронного осадження за кімнатної температури з подальшим термічним відпалом у вакуумі в температурному інтервалі від 400°C до 600°C упродовж 1 год. З метою дослідження впливу інверсії розташування шарів на кристалічну структуру, фазоутворення та хемічний склад після термічного оброблення застосовано комбінацію метод РСФА і ВІМС. Виявлено, що відпал двошарової системи Ni/Ti зумовлює дифузію атомів Ti через шар Ni за зерномежовим механізмом до зовнішньої поверхні. У випадку системи Ti/Ni дифузійна взаємодія між Ni і Ti під час термічного оброблення відсутня, тоді як термічно індукована дифузія між Ni і підкладинкою приводить до утворення силіцидів NiSi. Обговорюються ймовірні структурні та термодинамічні причини такої поведінки.