Вплив електроміґрації на кінетику реакційної дифузії в системі Cu—Sn
С. В. Корнієнко, Д. О. Зраєв
Черкаський національний університет ім. Б. Хмельницького, бульв. Шевченка, 81, 18031 Черкаси, Україна
Отримано: 07.07.2016. Завантажити: PDF
Проведено експериментальне дослідження реакційної дифузії в системі Cu—Sn під дією постійного електричного струму густиною у 7,3$\cdot$10$^{7}$ А/м$^{2}$. Особливістю експерименту було те, що конструкція досліджуваного зразка виключала можливість перенесення атомів Купруму від катоди до аноди через спільний прошарок цини. За таких умов ріст фази Cu$_{3}$Sn + Cu$_{6}$Sn$_{5}$ на аноді відбувається швидше, ніж на катоді. Кінетика росту відповідає лінійному часовому закону $\Delta x \propto t$. З використанням моделю процесу реакційної дифузії при електроміґрації було проведено аналізу одержаних експериментальних результатів.
Ключові слова: електроперенесення, реакційна дифузія, інтерметалева сполука, Cu/Sn.
URL: http://mfint.imp.kiev.ua/ua/abstract/v38/i10/1293.html
PACS: 64.70.kd, 64.75.St, 66.30.Ny, 66.30.Qa, 68.35.Dv, 68.35.Fx, 85.40.Ls