В роботі розглянуто вплив швидкостей нагріву й охолодження матеріялів підкладинки з міді та неіржавійної сталі на структуру йонно-плазмових покриттів, одержаних методою КІБ — осадження продуктів дугового розпорошення катоди, виготовленої механічним способом зі зливка високоентропійного стопу AlCuCoFeNiCr еквіатомового складу. Структуру матеріялу катоди та покриттів досліджували за допомогою оптичної й електронної мікроскопій, а також рентґенівської дифрактометрії. Встановлено, що одержані покриття, на відміну від структури катоди не містять дендритів, а представлені зернами різної дисперсности, що є результатом не тільки різних температур нагрівання підкладинок, але й швидкостей охолодження конденсованих на них продуктів. Показано, що покриття, нанесене на неіржавійну сталь, складається із зон міжкрапельного простору, що мають нанорозмірну структуру (2,5–15 нм) з ОЦК-кристалічною ґратницею, і ділянок падіння крапель, де зерна мають розміри в інтервалі 15–50 нм і містять численні фази різного ступеня досконалости. У покриттях на міді виявлено більші зерна (150–350 нм) і значно меншу кількість стабільних фаз з більш досконалою структурою.