Наведено конструкцію й описано принцип дії імпульсного вакуумно-дугового джерела плазми для одержання багатокомпонентних покриттів. Запропонований складовий катодний вузол такого джерела плазми має основу, виконану з металу, що має високу теплопровідність, у вигляді циліндра з торцями, один з яких охолоджується. В основі катоди виконано наскрізні отвори, які розташовані рівномірно по концентричних колах відносно осі основи і в які вакуумно-щільно вмонтовано циліндричні вставки з металів, що входять до складу покриття. Вставки виконано у формі втулок; всередину кожної втулки щільно вмонтовано ізолятор з підпалювальною електродою. У випадку, коли матеріял основи входить до складу покриття, замість, як мінімум, одного отвору для втулки у циліндричній основі виконано отвори, в якій вакуумно-щільно вмонтовано ізолятори з підпалювальною електродою. Описано принципи дії імпульсного джерела плазми із запропонованим складовим катодним вузлом для одержання багатокомпонентних покриттів заданого складу. Практичні випробування розробленого джерела плазми у режимі нанесення покриттів (амплітудне значення струму дуги — 420 А, тривалість імпульсів дуги на титані — 50 мкс, на молібдені — 45 мкс, на алюмінії — 665 мкс) за різних частот проходження імпульсів показали, що одержані багатокомпонентні покриття мають склад, близький до заданого, а само імпульсне джерело плазми характеризується надійною роботою.