Відбивання повільних електронів від графену на поверхні (110)Mo
М. М. Нищенко, С. В. Смольник, М. Я. Шевченко
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України, бульв. Академіка Вернадського, 36, 03142 Київ, Україна
Отримано: 20.04.2015. Завантажити: PDF
Вивчено вплив сеґреґації вуглецю на нагрітій у надвисокому вакуумі атомово-чистій поверхні Mo(110) на відбивання повільних (0—50 еВ) електронів методою спектроскопії повного струму (СПС) і роботу виходу $\varphi$ методою контактної ріжниці потенціялів (КРП). У ході відпалу при $Т_{відп}$ = 1400—2000 К величина $\varphi$ плавно знижується на $\Delta \varphi$ = 0,18 еВ (до 4,82 $\pm$ 0,02 еВ), що супроводжується монотонним зсувом двох основних мінімумів у СПС назустріч один одному на $\Delta E$ = 1,2 еВ до значень $Е$ = 4,8 и 12,5 еВ, характерних для збудження у графені плазмонів у $\pi$-зоні провідности та ($\pi + \sigma$)-валентній зоні відповідно. Мінімуми свідчать про емісію електронів у зворотньому напрямку; їхні зсуви спричинено зміщенням енергії $\pi$-зони провідности вгору, а $\sigma$-валентної зони – вниз. Відпал при $Т_{відп}$ = 2200—2700 К не змінює значення $\varphi$ і всі параметри СПС, а стан такої поверхні стає термодинамічно стабільним для графену на Мо(110). Останній збільшує кількість піків відбивання електронів від трьох до п’ятьох і понижує в декілька разів коефіцієнт їхнього відбивання, який спадає практично до нуля з підвищенням $Е$.
Ключові слова: графен, робота виходу, коефіцієнт відбиття електронів, спектроскопія повного струму.
URL: http://mfint.imp.kiev.ua/ua/abstract/v37/i09/1183.html
PACS: 65.40.gh,68.35.B-,68.35.Dv,68.47.De,68.49.Jk,68.65.Pq,73.22.Pr,81.05.ue