У роботі розглянуто особливості фотопластичного ефекту (ФПЕ), що виникає у вузькощілинних кристалах ($E_g \cong$ 0,2 еВ) халькогенідів ртуті, освітлених білим світлом, у процесі їх одновісної деформації. Встановлено, що опромінення впливає на пластичну деформацію вузькощілинних кристалів твердих розчинів Cd$_{x}$Hg$_{1-x}$Te ($х$ — молярний склад). Досліджений в роботі від’ємний фотопластичний ефект (ВФПE) пов’язаний зі зменшенням напруги пластичної плинности при опроміненні білим світлом в умовах одновісної пластичної деформації кристалу за постійної швидкости навантаження. Виявлено, що, на відміну від широкозонних кристалів сполук II–VI груп, які виявляють позитивний ФПЕ, в кристалах твердих розчинів Cd$_{x}$Hg$_{1-x}$Te ВФПE спостерігається за відсутности внутрішнього фотоефекту. Модель, що пояснює природу ВФПE, ґрунтується на встановленому факті зменшення при освітленні кристалу позитивного заряду в оксидному шарі приповерхневої области кристалу. Зменшення заряду понижує потенціяльний бар’єр для виходу на поверхню дислокацій, що породжуються приповерхневими джерелами в процесі динамічного навантаження. Наслідком є зменшення напруги плинности деформації кристалу.