Надпровідникові гібридні гетероструктури MoRe–Si(W)–MoRe та транспорт заряду через локалізовані в бар’єрі стани
В. Є. Шатернік$^{1}$, А. П. Шаповалов$^{2}$, О. Ю. Суворов$^{1}$
$^{1}$Інститут металофізики ім. Г. В. Курдюмова НАН України, бульв. Академіка Вернадського, 36, 03142 Київ, Україна
$^{2}$Інститут надтвердих матеріалів ім. В. М. Бакуля НАН України, вул. Автозаводська, 2, 04074 Київ, Україна
Отримано: 05.11.2018. Завантажити: PDF
В роботі наведено результати дослідження транспорту заряду в надпровідникових гетероструктурах MoRe–Si(W)–MoRe з гібридним бар’єром у вигляді шару напівпровідника з кластерами металу. При низькому вмісті вольфраму в бар’єрі вольт-амперні характеристики гетероструктури визначаються внесками у транспорт зарядів одночасно від тунельних процесів та процесів Андріївських відбивань носіїв. При підвищеному вмісті вольфраму в бар’єрі в гетероструктурах виникають надпровідні струми, обумовлені Андріївськими відбиваннями носіїв на інтерфейсах та одночасно резонансно-перколяційним транспортом зарядів крізь бар’єри.
Ключові слова: гібридні надпровідникові гетероструктури, перехід Джозефсона, одновимірний транспорт, резонансне тунелювання, резонансно-перколяційний транспорт.
URL: http://mfint.imp.kiev.ua/ua/abstract/v41/i05/0565.html
PACS: 73.23.Hk, 73.30.+y, 74.45.+c, 74.50.+r, 74.55.+v, 74.81.Fa