Модернізація технології вакуумно-дугового нанесення багатошарових наноструктурних покриттів
І. В. Сердюк, В. О. Столбовий, А. В. Доломанов, В. М. Домнич
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України, вул. Академічна, 1, 61108 Харків, Україна
Отримано: 17.05.2021; остаточний варіант - 11.02.2022. Завантажити: PDF
Проведена модернізація технології вакуумно-дугового нанесення багатошарових покриттів. Розроблено дослідний зразок пристрою, призначеного для управління роботою вакуумно-дугових випарників (плазмових джерел) та напускачів для напуску газів у вакуумну камеру в процесі нанесення простих і складних комплексних багатошарових наноструктурних вакуумно-дугових покриттів. Цей пристрій являє собою 2-х канальний програмований цифровий пристрій, один з каналів якого керує роботою вакуумно-дугових випарників, а інший канал — роботою напускачів. Таким чином, є можливість одночасної роботи двох вакуумно-дугових випарників і двох напускачів газів. Товщину шарів вакуумно-дугового покриття, а також порядок їх нанесення можна регулювати режимами і тривалістю роботи каналів пристрою управління. Застосування даного пристрою дозволило одержати багатошарові вакуумно-дугові WNbN/WNbC покриття з мікротвердістю 27–31 ГПа.
Ключові слова: вакуумно-дугове нанесення, багатошарові покриття, вакуумно-дуговий випарник, напускач газу, програмований цифровий пристрій, наноструктурні покриття.
URL: https://mfint.imp.kiev.ua/ua/abstract/v44/i04/0547.html
PACS: 07.07.Tw, 68.60.-p, 81.07.-b, 81.15.-Aa, 81.15.-z, 89.20.Bb